近日，據(jù)媒體報(bào)道 ， 國(guó)內(nèi)最早進(jìn)的蝕刻巨頭，中微半導(dǎo)體成功自研出了3nm蝕刻機(jī)！各項(xiàng)性能指標(biāo)均已通過(guò)權(quán)威機(jī)構(gòu)的檢測(cè)，所有技術(shù)都是100%國(guó)產(chǎn)，更重要的是，這項(xiàng)創(chuàng)新裝備已經(jīng)開(kāi)始量產(chǎn) 。
如果把光刻機(jī)比喻為芯片制造的“魂”，那么蝕刻機(jī)就是“魄”，這兩項(xiàng)裝備在芯片制造產(chǎn)業(yè)中的重要性旗鼓相當(dāng) 。
【國(guó)產(chǎn)巨頭突破3納米】

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“光刻”是指利用紫外線光源技術(shù)對(duì)設(shè)計(jì)好線路圖的晶圓進(jìn)行刻畫(huà) 。
“刻蝕”則是在光刻以后，用化學(xué)腐蝕液將硅片上過(guò)剩的部分“去除”，從而讓晶圓變成半導(dǎo)體器件 。
截至目前 ， 中微半導(dǎo)體是全球唯逐一家都能生產(chǎn)3nm精度蝕刻機(jī)的企業(yè) 。以“一代芯片 ， 一代裝備”來(lái)看，國(guó)產(chǎn)3nm蝕刻機(jī)毫無(wú)疑問(wèn)將成功進(jìn)入最早進(jìn)3nm芯片制造的裝備供應(yīng)鏈 。
全球最大的兩家代工企業(yè)，臺(tái)積電和三星均已向中微半導(dǎo)體下單 。
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