在過去幾年里，中國在芯片領(lǐng)域獲得了長足的進(jìn)步，不但在成熟工藝上實(shí)現(xiàn)了自給自足，在先進(jìn)工藝上也獲得了重大突破 。中國最大的芯片代工廠商中芯國際已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了7nm制程技術(shù)的量產(chǎn) ， 并且正在研發(fā)5nm乃至3nm的工藝 。
中芯國際還與荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML達(dá)成了合作協(xié)議，取得了多臺EUV（極紫外線）光刻機(jī)，這是目前全球最早進(jìn)的光刻裝備，能夠制造出更精密的芯片圖案 。另外，中國還有多家企業(yè)在7nm及以下制程芯片上進(jìn)行了突破性的研發(fā)和試產(chǎn)，如長江存儲、寒武紀(jì)、紫光展銳等 。
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這些成就表明，中國已經(jīng)具有了7nm及以下制程芯片的研發(fā)和生產(chǎn)能力，并且正在向更高端的技術(shù)邁進(jìn) 。這是中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展歷史上的一個(gè)里程碑，也是中國科技創(chuàng)新能力的一個(gè)重要體現(xiàn) 。
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