過去三年被限制的顯示例子告知我們所有人，雖然光刻機(jī)自研的難度十分之高 ， 但卻是未來不能不進(jìn)行的科技研發(fā)，更是不能不投入的研發(fā)資金 。
中國(guó)內(nèi)地光刻機(jī)研發(fā)工藝最出眾的企業(yè) ， 當(dāng)屬上海微電子，其將光刻機(jī)分為幾個(gè)板塊 ， 分別進(jìn)行重點(diǎn)研發(fā) ， 并獲得了喜人的成績(jī) 。而在28nm制程的光刻機(jī)工藝上，已然獲得了不錯(cuò)的成績(jī)，得到了ASML的高度贊美 。

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ASML乃至表示，再給上海微電子5年時(shí)間，那么光刻機(jī)的核心科技將不再是秘密 。而除了上海微電子這類走傳統(tǒng)線路的企業(yè)以外 ， 還有大量的中國(guó)企業(yè)另辟蹊徑，通過不同的方式來實(shí)現(xiàn)只有高端光刻機(jī)才能夠完成的操作 。
【中國(guó)光刻機(jī)發(fā)展現(xiàn)狀】像是通富微電便通過繞過光刻機(jī)的方式，實(shí)現(xiàn)了5nm制程工藝芯片的量產(chǎn)，但是芯片的整體體積仍舊需要縮??；南大广稻^?薔勱構(gòu)飪探毫煊潁?實(shí)現(xiàn)了ArF光刻膠的自主生產(chǎn)，擺脫了對(duì)于外國(guó)企業(yè)的依賴 。不但是中國(guó)企業(yè)通過繞過光刻機(jī)方式進(jìn)行半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)布局 ， 外國(guó)企業(yè)一樣采取各種方式擺脫對(duì)于EUV光刻機(jī)的依賴 。
關(guān)于本次中國(guó)光刻機(jī)發(fā)展現(xiàn)狀的問題分享到這里就結(jié)束了，如果解決了您的問題，我們非常高興 。

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